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半导体设备(韩国零部件短缺交期拉长),卡位最深的10家企业
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全球半导体设备的瓶颈,正在从缺订单变成缺零部件。祖合有惊喜

9 月 16 日,据韩国科技媒体 ETNEWS 报道,韩国半导体制造设备关键零部件交货周期已延长一倍以上,行业正面临供应短缺。

沉积设备零部件从过去 4 个月拉长到 10 个月;一家半导体激光加工设备制造商从日本采购的关键零部件,交货期可能长达 40 个月,即便愿意支付溢价也无法加快交付;封装设备本土零部件到货时间也比平时长约 50%。

消息发酵后,9 月 18 日半导体设备板块走强,半导体设备 ETF 标的指数午后涨超 4%。

交期失控,国产替代窗口打开

这场短缺不是需求走弱,而是供给端卡脖子。国际设备大厂优先满足台积电、三星、SK 海力士等巨头的先进制程订单,中国晶圆厂采购海外设备变得更困难。

更关键的变化是:过去国际大厂对国产零部件持验证观望态度,如今因自身交期失控,开始主动尝试中国供应商。

半导体制造设备与晶圆加工场景,AI 生成示意图,仅作选题配图使用

与此同时,国内设备商交期相对较短。据 ET News,中微公司刻蚀设备交期约 9 个月,拓荆科技 CVD 设备约 10 个月,明显短于海外同类产品;中国半导体工厂设备国产化率已达约 35%,韩企开始感受到订单压力。

供给短缺叠加存储与 AI 扩产周期,机构认为板块仍是未来几年高景气方向。三星、SK 海力士、美光 2026 年至 2028 年多条新产线投产,将为设备行业带来长期稳定订单。

国产化率梯度,决定谁卡位最深

半导体设备国产替代并非齐头并进,而是按环节分梯度推进。

刻蚀是国产化进展最快的环节之一,北方华创与中微公司形成两强格局,国产化率已突破 30%;薄膜沉积环节由拓荆科技、微导纳米等主导;而光刻、涂胶显影、高端量检测等环节国产化率仍不足 10%,海外供应商占据绝对主导,也是替代空间最大的方向。

从订单看,北方华创手握约 820 亿元在手订单、约 286 亿元存货;中微公司累计超过 8300 个反应台在全球 180 多条产线量产,CCP 刻蚀设备已进入全球 3 纳米先进产线批量销售。订单饱满但交付受限于零部件,是当前国产设备商的共同状态。

完整产业链,覆盖四个核心环节

第一,前道平台化设备:刻蚀、薄膜沉积、清洗等核心工艺设备,国产化率较高。

第二,低国产化率环节:涂胶显影、量检测等海外垄断环节,替代弹性大。

第三,热处理与去胶:去胶、热处理等专用工艺设备。

第四,后道封测设备:封装测试设备,受益先进封装扩产。

当前行业处于零部件短缺与国产替代加速共振阶段:高端设备国产化仍处早期,零部件供应是否缓解、海外大厂扩产节奏变化均存在不确定性。

卡位最深的 10 家企业

1、北方华创$ 北方华创 ( SZ002371 ) $

前道平台化设备龙头,覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗等核心工艺,国内刻蚀环节两强之一。手握约 820 亿元在手订单,中报业绩短期受零部件供应不足影响交付节奏,长期卡位国产设备替代核心环节。

2、中微公司$ 中微公司 ( SH688012 ) $

刻蚀设备龙头,CCP 刻蚀设备已进入全球 3 纳米先进产线批量销售,累计超过 8300 个反应台在全球 180 多条产线量产。设备交期约 9 个月,明显短于海外同类产品,受益海外大厂交期失控带来的替代机会。

3、拓荆科技$ 拓荆科技 ( SH688072 ) $

化学气相沉积(CVD)薄膜沉积设备龙头,设备交期约 10 个月。卡位薄膜沉积国产化环节,受益存储与逻辑产线扩产。

4、微导纳米

原子层沉积(ALD)设备厂商,卡位薄膜沉积细分环节,受益先进制程对薄膜工艺要求提升。

5、芯源微

涂胶显影设备厂商,该环节国产化率仍低,海外供应商主导。卡位低国产化率环节,替代弹性大。

6、中科飞测

半导体量检测设备厂商,覆盖检测与量测环节。量检测设备国产化率仍低,是国产替代重要方向。

7、精测电子

半导体量检测设备厂商,布局前道量检测与显示检测。卡位低国产化率环节,受益晶圆厂扩产。

8、屹唐股份

去胶、热处理与刻蚀设备龙头,深耕专用工艺设备环节,受益国产设备替代。

9、长川科技

后道封测设备厂商,覆盖测试机、分选机等。受益先进封装扩产与后道设备国产化。

10、华峰测控

后道测试设备龙头,主营模拟及混合信号测试机。卡位后道封测环节,受益封测厂扩产。

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