西方国家在今年 4 月份提出的 match 法案，就是针对 ASML 浸润式光刻机实施更加严格的限制，禁止 ASML 向 5 家中国公司继续销售浸润式光刻机，并且同步限制零件供应和售后维修服务。

而且还要求 ASML 等企业在 150 天内对其制裁标准，否则将受到美方的直接管控。

如今 150 天的期限几乎已经到期，但 match 法案仍然没有进一步的消息。

无论是荷兰一方还是 ASML 公司，都对该法案提出了反对意见，认为这项法案对 ASML 以及全球半导体产业来说完全是不合理的，出口管制应该由荷兰自行决定。

EUV 光刻机早已禁售，ASML 在 EUV 领域失去了中国市场上的少部分大客户。而 DUV 光刻机的禁售，则是将少部分客户扩大到几乎所有的客户。

EUV 的核心作用是制造 7nm 及更先进的尖端芯片，这些芯片的应用场景较少，而且高度集中于需要强大性能的产品上面。

手机 soc 芯片、电脑 CPU、GPU、算力芯片这些领域对于先进芯片的需求旺盛，并且在汽车智驾技术的竞争当中起到了决定性作用。

在先进芯片激烈竞争的背后，则是大量成熟芯片在支撑设备运行。

绝大部分产品并不需要 7nm 及以下工艺的芯片，14nm、28nm 及以上成熟工艺的芯片产品被大量用于通信、汽车、电器、工业生产等众多领域，制造这些芯片的主要设备是 DUV 光刻机。

甚至技术更古老的 g 线、i 线光刻设备也还在运行，用于制造模拟芯片、功率器件等对于晶体管线宽要求不高的产品。

成熟芯片是各行各业运转的基石，也是我国近 10 年持续推动发展的产业技术。

从外部进口所需的芯片产品只能是缓解使用需求，只有在芯片制造上实现较高的自主可控，才能将信息技术的安全握在自己手里。

光刻机这种高精尖设备目前只有少数企业可以制造出来，荷兰 ASML、日本尼康和佳能、中国的上海微电子等企业。

ASML 是毋庸置疑的产业龙头，集合了全球顶级供应链制造设备。

尼康和佳能本身就是传统光学企业，在光刻机的研发上具备技术底蕴。

而我国光刻机产业从 2002 年上海微电子创办开始，才算有了前进的目标和方向。

虽然起步比较晚，但我国企业经过 20 多年的技术攻关，也掌握了干式 DUV 光刻机的制造能力，正在对更加先进的浸润式 DUV 光刻机进行工艺测试。

在国产设备没有准备好之前，采购海外设备是最为有效的方案。

而 ASML 作为服务于全球的光刻机企业，已经与中国市场建立了深度合作关系，中国企业采用 ASML 的设备制造大量成熟芯片出口海外市场，而海外市场需求中国企业供应的成熟芯片去制造汽车等规模化工业产品。

禁止 ASML 继续向中国市场销售光刻机，无异于是切断了海外成熟芯片的大规模供应渠道。ASML CEO 此前用一句话，精准的总结了出口管制所带来的影响：阻止别人生产你需要的东西，是毫无意义的举动。