快科技 10 月 27 日消息，荷兰科技记者马克 · 海金克长期追踪 ASML，曾出版《芯片制造：光刻巨头 ASML 传奇之路》。

他在调查中提出一个最新判断：中国在出口管制全面收紧之前，已经囤积了规模可观的 ASML 光刻机，这为后续的芯片技术持久战提供了设备层面的缓冲。

海金克的调查数据显示，中国境内拥有 800 多台 ASML 光刻机，其中约一半掌握在中国企业手中，另一半则部署在三星、SK 海力士等外资在华工厂。

这一数字并非官方统计，而是海金克基于长期跟踪给出的估算，但它指向的事实是明确的：在 EUV 被禁、DUV 尚可采购的窗口期内，中国企业进行了集中采购。

这些存量设备随后被用于推进先进工艺。2022 年，中国厂商利用已有的 ASML DUV 设备，通过多重曝光实现等效 7nm 芯片制造；2023 年，国产 5G 手机搭载了基于该工艺的芯片。

DUV 多重曝光并非没有代价，工艺复杂度、成本与良率控制都面临压力，但在 EUV 不可获得的条件下，它成为争取时间的关键工具。

与此同时，管制在持续收紧。2024 年，荷兰政府部分撤销了 ASML NXT:2050i 和 NXT:2100i 浸润式 DUV 光刻机的对华出口许可，影响少数中国客户。

此后美国进一步推动将限制范围扩大至存量设备的维保服务，试图把已交付设备的长期运行也纳入管控。

外部限制的收紧，反过来改变了国产设备的市场处境。海金克在 2018 至 2019 年随 ASML 时任 CTO 马丁 · 范登布林克访问上海某工厂时观察到，当时中方产品停留在 90nm 水平，但研发路线已经指向 28nm 浸润式系统。

海金克对此的评价是，中国的科技路线常常以难以预测却极具创造力的方式推进。

800 多台存量 ASML 设备提供的是时间，而不是终点；真正决定这场持久战走向的，是国产光刻机从 90nm 向 28nm 乃至更先进节点推进的速度。

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