快科技 11 月 11 日消息，据 TrendForce 报道，华邦电子正在积极推进其 DRAM 和 NOR Flash 技术路线图，计划引入 EUV 光刻技术。

华邦电子总经理陈沛铭透露，目前正在开发两代 14nm DRAM 工艺，是否采用 EUV 光刻技术是两者的主要区别之一，加入 EUV 的产品目标 2030 年推出。

陈沛铭表示，EUV 可以减少生产步骤，从而缩短加工时间，并提高良品率。华邦电子与 ASML 在 EUV 方面展开合作已有三年半，正派遣员工赴 ASML 接受培训，为后续引入 EUV 光刻技术做好准备。

ASML 承诺首个 EUV 光刻系统交付时间大概在两年内，后续系统根据当前交货周期预计需要等三年半。

更长的设备交货周期也影响了华邦电子的扩张计划。陈沛铭称，部分设备交货时间已经超过两年，使得华邦电子不得不提前很长时间下单。

华邦电子计划今年 12 月开始在中国台湾高雄建造新工厂，预计 2029 年投入运营，2030 年实现大规模生产。

【本文结束】如需转载请务必注明出处：快科技

责任编辑：鹿角