整体产品验证周期预计将逐步呈现收敛缩短趋势。

在先进制程设备持续放量的带动下，半导体设备企业拓荆科技（688072.SH）上半年营收、净利润双双实现高速增长。8 月 20 日晚间，拓荆科技披露 2026 年半年度报告。上半年，公司实现营业收入 29.13 亿元，同比增长 49.06%；实现归属于上市公司股东的净利润 13.43 亿元，同比增长 1324.10%。

从单季度来看，公司业绩增长势头进一步加快。拓荆科技二季度实现营业收入约 18 亿元，一季度实现营收 11.12 亿元，环比增长约 61.9%；归母净利润约 7.72 亿元，一季度为 5.71 亿元，环比增长约 35.2%。

对于业绩增长，公司表示，公司始终坚持自主创新，并持续加大力度推进先进制程领域的新产品、新工艺的拓展与量产应用，报告期内，公司先进产品凭借高质量、高性能的优异表现，批量通过了客户验证，致公司业务规模和收入快速增长。

同时，拓荆科技提到，营业成本随营业收入同步增长，较上年同期增加约 3.89 亿元，同比增长 29.24%，增幅低于营业收入，主要是公司生产规模效应逐步释放，叠加新产品、新工艺设备已实现量产应用，有效降低了产品单位生产成本。

拓荆科技表示受上述因素影响，公司毛利较上年同期增加约 5.70 亿元，毛利率同比提升约 9 个百分点，整体产品盈利能力显著增强；业务规模化带动整体期间费用率同比有所下降，规模效应持续释放利润空间；公司交易性金融资产产生的公允价值变动收益较上年同期增加约 9.60 亿元。

值得一提的是，上半年，拓荆科技经营活动产生的现金流量净额为 1.15 亿元，同比减少 92.63%。公司解释，因公司与客户约定的付款条件及履行情况不同，致销售回款阶段性降低；公司业务增长带来的采购付款及支付的各项税费增加；公司人员增长导致支付的职工薪酬增加。

半年报显示，上半年公司在先进制程领域的产品拓展与量产应用取得了突出成果，多款关键设备在客户端批量通过验证并进入规模化量产阶段。

在核心产品 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备方面，应用于先进存储、先进逻辑领域的 Stack（ONO 叠层）、ACHM 系列硬掩膜工艺已进入规模化量产，OPN、SiB 及 PECVD Bianca 等产品持续扩大量产规模并实现收入转化。基于 pX 反应腔开发的 α -Si 先进工艺设备已通过先进逻辑客户验证。

在 ALD（原子层沉积）设备方面，多台 PE-ALD SiO ₂、SiCO 等工艺设备在先进存储领域量产规模快速攀升，完成重复订单验证并实现收入转化，SiO ₂、SiN、SiCO、TiO 等工艺设备持续出货至客户端。

在三维集成设备领域，公司推出的晶圆对晶圆混合键合、熔融键合、芯片对晶圆混合键合等系列产品持续拓展新客户和新应用，部分产品已实现产业化应用，为后摩尔时代技术发展提供关键支撑。

截至报告期末，公司累计出货超过 3800 个反应腔（包括超过 480 个新型反应腔 pX 和 Supra-D），进入约 100 条生产线，客户端产线累计流片量约 6 亿片，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过 90%，达到国际同类设备水平。

拓荆科技在财报中透露，公司募投项目 " 高端半导体设备产业化基地建设项目 "（沈阳二厂）规划总建筑面积超 15 万平方米，已完成主体结构封顶，预计 2028 年建成投入使用。" 本项目的实施将有力支撑公司业务规模的持续扩大，进一步巩固在高端半导体设备领域的竞争优势，为提升市场份额和行业地位奠定坚实基础。" 拓荆科技表示。

拓荆科技表示：" 公司始终坚持以自主创新为核心驱动力，围绕先进制程和后摩尔时代技术迭代需求进行前瞻性布局。在巩固薄膜沉积设备优势的基础上，公司于 2018 年即开始布局三维集成设备产品，目前已形成‘薄膜沉积 + 三维集成’的双轮驱动产品格局。"

谈及未来，拓荆科技表示，随着公司产品在集成电路制造产线中的应用规模持续拓展，新平台、新工艺技术不断成熟，叠加公司与下游客户已建立的高效稳定合作关系，整体产品验证周期预计将逐步呈现收敛缩短趋势。公司也将持续对产品验证进度与货款回收情况进行跟踪管控，保障公司经营业务持续健康发展。